반응형 나노패턴1 포토레지스트 생산 과정 및 관련 회사 총정리!! 포토레지스트(Photoresist)는 반도체, 디스플레이, MEMS(미세전자기계시스템) 등 다양한 산업에서 미세 패턴을 형성하는 데 사용되는 감광성 소재예요. 빛(자외선, 극자외선 등)에 반응하여 화학적 성질이 변하는 특성을 활용해 웨이퍼 위에 정밀한 회로 패턴을 형성할 수 있도록 해요.포토레지스트는 주로 반도체 공정(포토리소그래피 과정)에서 사용되며, 높은 해상도와 정밀한 패턴 형성이 필수적이에요.2. 포토레지스트의 주요 성분포토레지스트는 다음과 같은 주요 성분으로 구성돼요.폴리머(Resin): 빛에 반응하는 감광성 수지로, 패턴 형성의 기본 구조를 제공해요.광반응성 물질(Photoactive Compound, PAC): 특정 파장의 빛에 반응하여 화학적 변화를 일으켜요.용매(Solvent): 폴리머와.. 2025. 2. 26. 이전 1 다음